Get Adobe Flash player

Анодирование. Электролиты барьерного типа.

Толщина анодной пленки пористого типа, полученной при использовании стандартных процессов анодирования серной, хромовой и щавелевой кислотами, может оказать плохое воздействие на анодируемый металл, если он обладает малой толщиной и может быть растворен во время нормального роста пленки. Примером может послужить алюминиевое покрытие, осажденное методом термовакуумного испарения, используемое для отражателей на оптических инструментах, а также на передних фарах автомобилей, в электрических фонарях и т.д.  Для получения такой пленки, которая достигает в толщину, как правило, 0,5 микрон (0,02 мил), необходимо использовать растворы, в которых возможно образование покрытия барьерного типа.

Однако самым важным типом барьерного покрытия в промышленности является тот, в котором реализуются такие существенные качества, как тонкость и в то же время способность сопротивляться высокому электрическому напряжению при использовании его в качестве диэлектрического материала в электролитических конденсаторах. В этих целях используется алюминий высокой степени очистки, без примесей, в форме фольги толщиной 0,085-0,10 мм. Ежегодно миллионы квадратных метров материала подвергаются анодированию, затем из него изготавливаются отдельные детали, каждая из которых содержит не более чем несколько граммов металла.

Барьерное покрытие привлекло особое внимание исследователей также и из-за принадлежности этих пленок к группе вентильных металлов. Было проведено много исследований. Они были посвящены образованию покрытия, свойствам и структуре оксида, механизму переноса ионов, свойствам тока эмиссии, электролюминесценции, а также зависимости остаточного тока утечки от электрического поля.

Поделитесь с друзьями!

Опубликовать в своем блоге livejournal.com

Добавить комментарий

Зарегистрируйтесь или авторизуйтесь, чтобы оставить комментарий.