5.6.3. Ненасыщенные олигоэфиры, отверждаемые УФ — и радиационным облучением

Промышленное значение имеют способы отверждения лаковых композиций на основе ненасыщенных олигоэфиров - отверждение под действием УФ - и радиационного облучения. Для этой цели обычно используют лаковые композиции, отверждение которых не ингибируется кислородом воздуха.

Лаковые композиции, предназначенные для отверждения УФ-облучением, однокомпонентные. В их состав входят фотоинициаторы (сенсибилизаторы), способные под действием света легко распадаться на радикалы. К таким инициаторам относятся бензоин и его производные, дифенилсульфид и др. Под действием света эти соединения распадаются при комнатной температуре следующим образом:

бензоин

дифенилсульфид

Этот метод обеспечивает при низких температурах высокие скорости отверждения (от 20 с до 10 мин), однако он применим лишь в случае отверждения пленок малой толщины.

Радиационное облучение обеспечивает отверждение ненасыщенных олигоэфиров в течение нескольких секунд при комнатной температуре без специальных добавок. Несмотря на значительные капитальные затраты, этот способ гарантирует высокую экономичность процесса при большом объеме производства в связи с малым потреблением энергии и очень хорошей производительностью. Существенным преимуществом радиационного отверждения перед отверждением УФ-лучами является возможность переработки пигментированных композиций.

Покрытия, полученные отверждением радиацией, отличаются повышенной твердостью и стойкостью к действию растворителей. Следует отметить, что этим способом иногда отверждают и парафиновые лаки, однако процесс при этом проводят в инертной атмосфере.