Подавление травления при гальванической обработке

Наличие оксидной пленки играет большую роль, и помогает объяснить возникновение эффекта подавления кристаллографического травления.  Оно приписывается растворению, которое происходит вследствие их близости к порам и повреждениям оксидной пленки. При непрерывном росте пленки и ее растворении, эти точки доступа претерпевают постоянные изменения, поэтому воздействие на атомы приобретает более или менее случайный характер.  Эффективность подавления травления зависит от толщины, пористости и электрических свойств пленки, а так же от состава металла и размера зерна.