Анодирование в щавелевой кислоте. Влияние производственных условий

В общем, бóльшая часть того, что было сказано о влиянии производственных условий на анодное окисление в серной кислоте, также применимо и к анодированию в щавелевой кислоте. Как и при использовании других методах, КПД анодной цепи и максимальная плотность покрытия при использовании как постоянного, так и переменного тока зависят от температуры. Например, в 5 % растворе щавелевой кислоты при температуре выше 50°С  при использовании постоянного тока  плотностью 1,2 А/дм² (11 А/квадратный фут) покрытие вообще не образуется, в то время как при использовании переменного тока плотностью 4 А/дм² (37 А/квадратный фут) покрытие образуется при 60°С.

Результаты, полученные Хубнером, показывают, что при понижении температуры толщина покрытия увеличивается. С увеличением уровня рН при высокой температуре кривая плотности покрытия на графике проходит через максимальный показатель, а оптимальный уровень рН находится между 1,5 и 2,5. Однако лучшими условиями при анодировании является более низкая температура, 25-40°С, а показатель оптимального уровня рН приблизительно равен 0,5-1 для приблизительно 3-8 % щавелевой кислоты.

Дженни изучал связь между концентрацией щавелевой кислоты, электрическим напряжением и толщиной покрытия при использовании постоянного и переменного тока. В общем, при анодировании постоянным током толщина покрытия увеличивается благодаря высокой температуре, образующейся в самом покрытии, а также частично благодаря эффекту выпрямления и выделению кислорода.

Добавление щавелевой кислоты может осуществляться на основании потребления тока. Используется примерно 0,13-0,14 г щавелевой кислоты на ампер-час, в то время как 0,08-0,09 г алюминия идет в раствор, образуя оксалат алюминия. К каждой части по массе растворенного алюминия добавляются 5 частей по массе щавелевой кислоты. При увеличении содержания алюминия плотность тока снижается. Если содержание алюминия равняется 3 % раствор бракуется